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      頭影測量的標(biāo)志點、平面、角度、線距

       五月五號星期五 2016-02-16

      頭影測量的標(biāo)志點、平面、角度、線距


      一、標(biāo)志點:

      1、顱部標(biāo)志點:鼻根點(N)、蝶鞍點(S)、耳點(P)、Bolton點;

      2、上頜標(biāo)志點:眶點(Or)、前鼻棘點(ANS)、后鼻棘點(PNS)、上切牙點(UI)、上齒槽點(A);

      3、下頜標(biāo)志點:下切牙點(LI)、下齒槽點(B)、頦前點(Po,)、頦頂點(Gn)、頦下點(Me)、下頜角點(Go);

      4、軟組織點:鼻頂點(Prm)、軟組織頦前點(Pos)、軟組織頦頂點(Gs)、軟組織頦下點(Me)、上唇度突點(UL)、下唇度突點(LL)。

      二、頭影測量平面:

      1)基準(zhǔn)平面:前顱底平面—SN、眼耳平面—FH、Boltond平面。

      2)測量平面:腭平面(ANS-PNS,PP,MxP)、顱底平面(Ba-N)、合平面(OP)、下頜平面(MP,MnP)、下頜升支平面(RP)、面平面(NPo)、NA平面、AB平面、APo平面、審美平面(Prm-Pos,E-line

      三、角度和線距:

      01、顱底角(NSBa):該角反映的是關(guān)節(jié)凹與顳下頜關(guān)節(jié)的位置。該角小時下頜趨向前,反之下頜后縮。

      02、SNA角:表明上頜相對于前顱底的前后位置。該角大時上頜相對鼻根點前突,反之,后縮。

      03、SNB角:該角表示下頜相對于前顱底的前后位置。該角大時下頜前突,反之下頜后縮。

      04、ANB角:表示上頜骨和下頜骨的相對前后位置。該角越大時表示上頜前突或者下頜后縮,反之,上頜后退或者下頜前突。

      05、面角(FH-NPo):表示頦相對于面部其他部份的位置。面角增大表示頦部前突,反之后退。

      06A-B水平距(Wits):AB點向功能合平面作垂線,其兩交點之間的距離。表示A點和B點之間的前后不調(diào),顯示上頜基骨和下頜基骨之間的不調(diào)程度,修正ANB角的固有問題。BOAO前負(fù)值,2mm以上,表示安氏III類錯合,AOBO前正值,表示安氏II類頜關(guān)系。

      07、A-B平面角:A-B平面與面平面之間的上交角,表示上頜基骨和下頜基骨相對于面平面的前后關(guān)系。A點在面平面之前,該角為負(fù)值,負(fù)值越大表明安氏II類骨骼型。該正值越大,表示安氏III類骨骼型。

      08、A-B合平面角:A-B平面與合平面之間的下后交角,該角越小,表明A點偏前或B點后縮,可表現(xiàn)安氏III分類錯合。當(dāng)該角越大,可表示安氏III類錯合伴有B點在A點之間。

      09、下頜平面角(SN-MnP/MP):表示了有關(guān)下面部的垂直關(guān)系和前后關(guān)系的信息。

      10、腭平面角(SN-MxP/PP):表示前鼻棘和后鼻棘在垂直向的位移和腭平面旋轉(zhuǎn)的信息。該角小時腭平面逆時針旋轉(zhuǎn),下頜平面順時針旋轉(zhuǎn)。

      11、腭平面-下頜平面角(MxP-MnP)該角大時反映了下頜平面平陡,或腭平面后部向下,或二者兼有,此時可有前牙開合傾向。

      12、前上面高(N-ANS,N-MxP):從前鼻棘點向鼻根點至頦下點連線作垂線,垂足至鼻根點的距離。

      13、前下面高(ANS-Me,Me-MxP):從前鼻棘點向鼻根點至頦下點連線作垂線,垂足至頦下點的距離。該值越大,有骨性開合。

      14、后面高/前面高(S-Go/Na-Me):前面高表示從鼻根點至頦下點的實際距離,后面高表示從蝶鞍點至下頜角點的實際距離。正常比為62%,過大時表示面部呈水平矢狀方向生長,反之呈垂直生長。

      15、上中切牙角(UI-SN):表示上中切牙相對前顱底的傾斜度,該角過大表示上中切牙唇傾,如伴有位置前突,可內(nèi)收上前牙,如

      UI-MxP:線角

      16、下中切牙角(LI-MnP/IMPA):<>三角>,表示下中切牙對于下頜平面的傾斜度,該角過大,表示下中切牙唇傾,反之舌傾。

      LI-Apo:突度距

      <>三角>:下頜平面-眼耳平面角(MP-FH/FMA),下中切牙-眼耳平面角(LL-FH/FMIA

      17、上下中切牙角(UI-LI):表示切牙的突度。

      18、審美線(E-Line):鼻尖至軟組織頦部的切線。

      E-line—UL/E-line—LL:點位于E線的唇側(cè)為正,舌側(cè)為負(fù)。

      19、ODI=AB平面與下頜平面的角度+腭平面與FH平面構(gòu)成的角度。(腭平面向前下方傾斜時角度正值,向前上方傾斜為負(fù)值。)該角越大進(jìn),測深覆合的傾向明顯,反之開合傾向。

      20APDI=面平面與FH平面的夾角+AB平面夾+腭平面與FH平面的夾角。(腭平面向前下方傾斜時角度正值,向前上方傾斜為負(fù)值。B點位于A點的后方為正值,前方時為負(fù)值。)該值越小,安氏II類錯合傾向明顯,反之,安氏III類錯合傾向明顯。

      21、EI=ODI+APDI+|上中切牙夾角-130|/5—(上唇突度+下唇突度)《審美線(E-Line):鼻尖至軟組織頦部的切線。E-line—UL/E-line—LL:點位于E線的唇側(cè)為正,舌側(cè)為負(fù)?!吩撝翟浇?/span>150,拔牙可能性越大,越近155,不拔牙的可能性越大。150-155間臨界病例。

      文章出處及作者信息

      原文編著: Lysle E. johnston

      主 譯 : 許 天 民













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