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      超實(shí)用!XRD樣品制備及儀器基本操作

       CJ__622 2017-02-24


      俗話說(shuō):“磨刀不誤砍柴工”了解XRD樣本的要求、制備過(guò)程并細(xì)心的制作XRD樣品,可以起到事半功倍的效果,而不是本末倒置,急于得到衍射圖譜而粗心準(zhǔn)備樣品,這樣往往引起實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)誤差,從而給結(jié)果分析帶來(lái)困難,浪費(fèi)大量的分析時(shí)間。


      1、XRD運(yùn)用對(duì)象


      X射線衍射儀技術(shù)可以獲得材料的晶體結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)等參數(shù),這些材料包括金屬材料和非金屬材料,大致如下:


      X 射線衍射技術(shù)可以分析研究金屬固溶體、合金相結(jié)構(gòu)、氧化物相合成、材料結(jié)晶狀態(tài)、金屬合金化、金屬合金薄膜與取向焊接金屬相、各種纖維結(jié)構(gòu)與取相、結(jié)晶度、原料的晶型結(jié)構(gòu)檢驗(yàn)、金屬的氧化、各種陶瓷與合金的相變、晶格參數(shù)測(cè)定、非晶態(tài)結(jié)構(gòu)、納米材料粒度、礦物原料結(jié)構(gòu)、建筑材料相分析、水泥的物相分析等。


      非金屬材料的X射線衍射技術(shù)可以分析材料合成結(jié)構(gòu)、氧化物固相相轉(zhuǎn)變、電化學(xué)材料結(jié)構(gòu)變化、納米材料摻雜、催化劑材料摻雜、晶體材料結(jié)構(gòu)、金屬非金屬氧化膜、高分子材料結(jié)晶度、各種沉積物、揮發(fā)物、化學(xué)產(chǎn)物、氧化膜相分析、化學(xué)鍍電鍍層相分析等。


      2、XRD樣品制樣要求


      Xrd可以測(cè)量塊狀和粉末狀的樣品,對(duì)于不同的樣品尺寸和樣品性質(zhì)有不同的要求,下面對(duì)分別對(duì)其作簡(jiǎn)要的介紹:


      1 XRD樣品制備


      (a)塊狀樣品的要求及制備

      • 對(duì)于非斷口的金屬塊狀試樣,需要了解金屬自身的相組成、結(jié)構(gòu)參數(shù)時(shí),應(yīng)該盡可能的磨成平面,并進(jìn)行簡(jiǎn)單的拋光,這樣不但可以去除金屬表面的氧化膜,也可以消除表面應(yīng)變層。然后再用超聲波清洗去除表面的雜質(zhì),但要保證試樣的面積應(yīng)大于10mm*10mm,因?yàn)閤rd是掃過(guò)一個(gè)區(qū)域得到衍射峰,對(duì)試樣需要一定的尺寸要求。


      • 對(duì)于薄膜試樣,其厚度應(yīng)大于20nm,并在做測(cè)試前檢驗(yàn)確定基片的取向,如果表面十分不平整,根據(jù)實(shí)際情況可以用導(dǎo)電膠或者橡皮泥對(duì)樣本進(jìn)行固定,并使樣品表面盡可能的平整。


      • 對(duì)于片狀、圓柱狀的試樣會(huì)存在嚴(yán)重的擇優(yōu)取向,造成衍射強(qiáng)度異常,此時(shí)在測(cè)試時(shí)應(yīng)合理的選擇響應(yīng)方向平面。


      • 對(duì)于斷口、裂紋的表面衍射分子,要求端口盡可能的平整并提供斷口所含元素。


      (b) 粉末樣品的要求及制備

      • 顆粒度的要求:

      對(duì)粉末樣品進(jìn)行X射線粉末衍射儀分析時(shí),適宜的晶粒大小應(yīng)在320目粒度(約40um)的數(shù)量級(jí)內(nèi),這樣可以避免衍射線的寬化,得到良好的衍射線。


      原因:任何一種粉末衍射技術(shù)都要求樣品是十分細(xì)小的粉末顆粒,使試樣在受光照的體積中有足夠多數(shù)目的晶粒。因?yàn)橹挥羞@樣,才能滿足獲得正確的粉末衍射圖譜數(shù)據(jù)的條件:即試樣受光照體積中晶粒的取向是完全隨機(jī)的。這樣才能保證用照相法獲得相片上的衍射環(huán)是連續(xù)的線條;或者,才能保證用衍射儀法獲得的衍射強(qiáng)度值有很好的重現(xiàn)性。


      • 樣品試片平面的準(zhǔn)備:

      在X射線衍射時(shí),雖然樣品平面不與衍射儀軸重合、聚焦圓相切會(huì)引起衍射線的寬化、位移及強(qiáng)度發(fā)生復(fù)雜的變化,但在實(shí)際試驗(yàn)中,如要求準(zhǔn)確測(cè)量強(qiáng)度時(shí),一般首先考慮如何避免擇優(yōu)取向的產(chǎn)生而不是平整度。


      2 (來(lái)源:education.mrsec.wisc.edu


      避免擇優(yōu)取向的措施:

      • 使樣品粉末盡可能的細(xì),裝樣時(shí)用篩子篩入,先用小抹刀刀口剁實(shí)并盡可能輕壓等等。

      • 把樣品粉末篩落在傾斜放置的粘有膠的平面上通常也能減少擇優(yōu)取向,但是得到的樣品表面較粗糙。

      • 通過(guò)加入各向同性物質(zhì)(如 MgO,CaF2等)與樣品混合均勻,混入物還能起到內(nèi)標(biāo)的作用。

      • 對(duì)于具有十分細(xì)小晶粒的金屬樣品,采用形變的方法(碾、壓等等)把樣品制成平板使用時(shí)也常常會(huì)導(dǎo)致?lián)駜?yōu)取向的織構(gòu),需要考慮適當(dāng)?shù)耐嘶鹛幚怼?/span>


      3 各種樣品試片


      • 粉末樣品的制備


      研磨(球墨)和過(guò)篩:對(duì)固體顆粒采用研缽(球磨機(jī))進(jìn)行研磨,一般對(duì)粉末進(jìn)行持續(xù)的研磨至<>


      注意:

      1.在研磨過(guò)程中,需要不斷過(guò)篩,分出已經(jīng)細(xì)化的顆粒。

      2.對(duì)于軟而不便于研磨的物質(zhì),可采用液氮或干冰使其變脆,在進(jìn)行研磨。

      3.有些樣品需要用整形銼刀制得金屬細(xì)屑,此時(shí)需要對(duì)制得的挫屑進(jìn)行退火處理消除銼刀帶來(lái)的點(diǎn)陣應(yīng)力。


      4 制粉流程操作流程

      涂片法:把粉末撒在一片大小約 25×35×1mm3的顯微鏡載片上(撒粉的位置要相當(dāng)于制樣框窗孔位置),然后加上足夠量的丙酮或酒精(假如樣品在其中不溶解),使粉末成為薄層漿液狀,均勻地涂布開(kāi)來(lái),粉末的量只需能夠形成一個(gè)單顆粒層的厚度就可以,待丙酮蒸發(fā)后,粉末粘附在玻璃片上,可供衍射儀使用,若樣品試片需要永久保存,可滴上一滴稀的膠粘劑。


      壓片法:如圖4把樣品粉末盡可能均勻地灑入(最好是用細(xì)篩子—360目篩入)制樣框的窗口中,再用小抹刀的刀口輕輕剁緊,使粉末在窗孔內(nèi)攤勻堆好,然后用小抹刀把粉末輕輕壓緊,最后用保險(xiǎn)刀片(或載玻片的斷口)把多余凸出的粉末削去,然后,小心地把制樣框從玻璃平面上拿起,便能得到一個(gè)很平的樣品粉末的平面。


      注意:涂片法采用樣品粉末量最少,根據(jù)實(shí)際粉末量多少選擇不同的方法。


      5 壓片法操作流程


      3、X射線衍射儀的使用方法


      (a)裝填樣品

      按下衍射儀面板上的Door按鈕,指示燈閃爍、蜂鳴器發(fā)出報(bào)警聲,緩慢的向右拉開(kāi)衍射儀保護(hù)門。


      將樣品表面朝上安裝到樣品臺(tái)上,此時(shí)注意盡可能的將樣品置于載物臺(tái)的中心位置。


      向左輕拉右側(cè)門,兩門自動(dòng)吸住后報(bào)警聲停止。


      6 XRD衍射示意圖


      (b)設(shè)置儀器參數(shù)


      點(diǎn)擊桌面Right Measurement System圖標(biāo),進(jìn)入到軟件控制界面


      雙擊Condition下面的1,進(jìn)入到測(cè)量條件的設(shè)置界面,根據(jù)所測(cè)試樣品要求,設(shè)置Start Angle(起始角)、Stop Angle(終止角)、Scan speed(掃描速度)等參數(shù)(注意:一般掃描電壓和掃描電流這些參數(shù)不要更改)


      條件設(shè)置好以后,關(guān)閉條件設(shè)置界面,返回主界面(注意:在設(shè)置參數(shù)的時(shí)候,XRD的起始角一般是大于3°,終止角小于140°,否則會(huì)使測(cè)角儀的旋轉(zhuǎn)臂撞到其他部件,使測(cè)角儀受到損壞。)


      點(diǎn)擊Browse按鈕,進(jìn)入到保存文件對(duì)話框,設(shè)置文件保存位置和樣品名稱后,返回主界面


      (c)開(kāi)始測(cè)試


      在主界面上點(diǎn)擊Executement,系統(tǒng)開(kāi)始調(diào)整KV、MA值,此時(shí)彈出新的測(cè)量窗口,直到測(cè)量完成,測(cè)量數(shù)據(jù)自動(dòng)保存在所設(shè)置為保存位置。


      (d)數(shù)據(jù)存盤

      一般為了防止U盤存在病毒,拷取實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)需要光盤,下面是一個(gè)光盤流程


      (e)關(guān)閉系統(tǒng)

      在測(cè)試的時(shí)候根據(jù)實(shí)際情況,如果后面仍有學(xué)需要測(cè)試,在完成自己樣品測(cè)試后,將自己的樣品取出即可。如果沒(méi)有人測(cè)試,則按照下面的流程來(lái)關(guān)閉X射線


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