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      全球半導(dǎo)體晶圓制造材料供應(yīng)鏈報告:總論

       老道童 2019-04-12

      作者:關(guān)牮、肖雋翀

      序言

      我們將陸續(xù)推出全球半導(dǎo)體材料/設(shè)備供應(yīng)鏈的系列報告,本篇為晶圓制造材料報告第一篇。我們將晶圓制造材料分為硅晶圓相關(guān)材料、光刻材料和其他材料(單位驅(qū)動材料、產(chǎn)能驅(qū)動材料)三類,對產(chǎn)業(yè)鏈上相關(guān)公司進(jìn)行了系統(tǒng)性梳理。

      在接下來的系列報告中,我們試圖從以下兩個視角構(gòu)建分析框架,以期能更好的追蹤產(chǎn)業(yè)趨勢:

      ①、公司視角:龍頭公司歷年財務(wù)表現(xiàn),預(yù)期未來財務(wù)表現(xiàn),產(chǎn)能利用率情況,股價走勢等;

      ②、供應(yīng)鏈視角:產(chǎn)品價格走勢,訂單/出貨變動走勢,進(jìn)出口數(shù)據(jù)變動走勢,細(xì)分行業(yè)指數(shù),數(shù)據(jù)相關(guān)性分析等;

      目錄

      一、全球市場概覽

      1.1 市場規(guī)模

      1.2 晶圓制造材料

      二、產(chǎn)業(yè)鏈跟蹤

      2.1 分類

      2.2 跟蹤分析框架

      三、硅晶圓產(chǎn)業(yè)鏈

      四、光刻產(chǎn)業(yè)鏈

      五、其他材料

      一、全球市場概覽

      1.1市場規(guī)模

      根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)顯示,2018年全球集成電路銷售額再創(chuàng)新高,達(dá)4688億美金。

      “微縮”是集成電路行業(yè)的代名詞和發(fā)展引擎。

      過去幾十年,集成電路行業(yè)基本遵循“摩爾定律”發(fā)展,即當(dāng)價格不變時,集成電路上可容納元器件數(shù)目約每隔18-24個月增加一倍,性能提升一倍。

      我們對全球主要的20家IDM、Foundry的營收進(jìn)行了統(tǒng)計,這20家公司2018年合計實現(xiàn)營收規(guī)模占全球集成電路銷售額的70%以上。

      根據(jù)SEMI最新數(shù)據(jù),2018年全球半導(dǎo)體材料銷售額為519.4億美金,其中晶圓制造材料322億美金、封裝材料197億美金。

      1.2 晶圓制造材料

      如前文所述,全球晶圓生產(chǎn)廠商有較明顯的大客戶集中性。晶圓制造材料的最終客戶是晶圓制造廠,這意味著材料供應(yīng)商在技術(shù)研發(fā)、銷售、提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)等方面面臨較大壓力。

      目前7nm是已實現(xiàn)量產(chǎn)的最先進(jìn)制程,4月3日臺積電宣布其已進(jìn)入5nm制程的試產(chǎn)階段。隨著制程的不斷進(jìn)步,對材料的品質(zhì)、穩(wěn)定性等要求越來越高,而能提供先進(jìn)制程材料的供應(yīng)商越來越少。

      2017年的IRDS(International Roadmap for Devices and Systems)對設(shè)備、材料、制造工藝如何在“More Moore”的發(fā)展道路上保持技術(shù)領(lǐng)先性,給出了時間表:

      注:以下我們還將反復(fù)提到的事實是,隨著下游客戶間的不斷整合,數(shù)量上便較以往年度更少,這將導(dǎo)致材料供應(yīng)商之間的競爭越來越激烈,而不斷出現(xiàn)并購現(xiàn)象。越往先進(jìn)制程發(fā)展,上游材料供應(yīng)商的壟斷現(xiàn)象則愈加明顯。

      晶圓制造材料分為硅晶圓、光罩、光刻膠、光刻膠輔助材料、濕化學(xué)品、氣體、靶材、研磨液/墊和其他材料。

      DBS Bank在2018年6月的一份報告中對晶圓制造材料在未來4年的市場規(guī)模的成長空間作了預(yù)估,根據(jù)其測算,成長性比較明顯的是硅晶圓和氣體:  

      我們匯總整理了全球主要晶圓制造材料供應(yīng)商在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的歷年財務(wù)數(shù)據(jù),如下所示:

      可以看到,全球營收排名靠前的材料供應(yīng)商主要分布在日本、美國和韓國,他們的匯總營收超過200億美金。其中,全球幾大硅晶圓龍頭供應(yīng)商的營收排名都較靠前,信越化學(xué)更是以33.46億美金的營收獨占鰲頭(公司不僅供應(yīng)硅晶圓,與此同時還生產(chǎn)光刻膠、掩模版的石英基板等半導(dǎo)體材料)。

      我們對晶圓制造材料供應(yīng)商供應(yīng)的產(chǎn)品進(jìn)行了匯總,如下所示:

      在材料領(lǐng)域,很多公司都基于自身技術(shù)的領(lǐng)先性優(yōu)勢和強(qiáng)大的研發(fā)能力,同時涉足多種不同的材料;從市場規(guī)模的角度來講,也是因為很多細(xì)分類別材料的市場空間都很小,以至于材料公司在產(chǎn)品類別上會具有更多的多樣性。

      二、產(chǎn)業(yè)鏈跟蹤

      2.1分類

      我們將晶圓制造材料進(jìn)行不同以往的分類,分為:硅晶圓相關(guān)材料、光刻材料和其他材料(單位驅(qū)動材料、產(chǎn)能驅(qū)動材料)三類。進(jìn)行這樣分類的原因主要有以下幾點:

      ①、硅晶圓產(chǎn)業(yè)鏈,硅是集成電路發(fā)展至今的基石,硅晶圓在整個晶圓制造材料中占比超過30%,硅的純度直接與制造工藝的精度相關(guān),目前為了適應(yīng)先進(jìn)制程的純度要求,信越生產(chǎn)的硅晶圓純度已經(jīng)達(dá)到13個9;

      ②、光刻產(chǎn)業(yè)鏈,光刻是“微縮”的關(guān)鍵技術(shù),光刻的分辨率決定了集成電路工藝的發(fā)展程度,光刻技術(shù)的發(fā)展帶來了材料突破、設(shè)備升級。因此,把光刻產(chǎn)業(yè)鏈單獨羅列出來,是非常有必要的;

      ③、其他,研磨墊/液、靶材、濕化學(xué)品、氣體等這些材料都劃分在“其他材料”這個類別,并根據(jù)這些材料在制造工藝中的“資產(chǎn)屬性”進(jìn)行細(xì)分。

      每生產(chǎn)一單位的產(chǎn)品需要消耗的材料,我們稱為“單位驅(qū)動材料”(Unit-drive Materials),如研磨液/墊、靶材、濕化學(xué)品、石英部件等。

      與下游Fab產(chǎn)能投資拉動密切相關(guān)所消費的材料,我們稱為“產(chǎn)能驅(qū)動材料”(Capital-drive Materials),如氣體、流體處理部件等。

      2.2 跟蹤分析框架

      我們試圖從以下兩個視角來構(gòu)建跟蹤分析框架:

      ①、公司視角:龍頭公司歷年財務(wù)表現(xiàn),預(yù)期未來財務(wù)表現(xiàn),產(chǎn)能利用率情況,股價走勢等;

      ②、供應(yīng)鏈視角:產(chǎn)品價格走勢,訂單/出貨變動走勢,進(jìn)出口數(shù)據(jù)跟蹤,行業(yè)指數(shù),相關(guān)性分析、材料代理商經(jīng)營變動情況等。

      三、硅晶圓產(chǎn)業(yè)鏈

      前幾年硅晶圓廠商擴(kuò)產(chǎn)的不積極導(dǎo)致近兩年硅晶圓供不應(yīng)求狀況顯著,單片價格不斷調(diào)漲,2018年全球硅晶圓實現(xiàn)114億美金銷售額,接近于2007年的121億美金的歷史峰值。

      硅晶圓的制造大致會經(jīng)過如下步驟:多晶硅料熔煉和精煉、長晶、切割、拋光、清洗等,最后制成硅晶片。

      通常將在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中使用的硅晶圓的直徑值來衡量硅晶圓的大小,直徑尺寸從25.4mm到450mm之間不等。目前主流硅晶圓大小為200mm(8吋)、300mm(12吋)。

      我們跟蹤、分析的硅晶圓產(chǎn)業(yè)鏈上材料有:硅晶圓(Silicon Wafer),再生晶圓(Reclaimed Wafer)、多晶硅料(Polysilicon)、石英部件(Quartz)、晶圓運輸盒(Shipping Box)、晶圓承載盒(Carrier)等。

      四、光刻產(chǎn)業(yè)鏈

      光刻(Lithography)是通過清洗、烘干、旋涂光刻膠、對準(zhǔn)曝光、顯影、刻蝕、清洗、檢測等一系列生產(chǎn)步驟,將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝。光刻生產(chǎn)的目標(biāo)是根據(jù)電路設(shè)計的要求,生成尺寸精確的特征圖形。

      2018年全球半導(dǎo)體用光刻機(jī)共出貨374臺,其中ASML、Nikon、Canon分別出貨224臺、36臺、114臺,實現(xiàn)同比增長12.6%、38.5%和62.9%。

      集成電路的光刻工藝,我們對其進(jìn)行如下細(xì)分:

      注:橙色方框為步驟,藍(lán)色方框為設(shè)備類,黃色方框為材料類;

      我們分析、跟蹤的光刻產(chǎn)業(yè)鏈上材料有:光刻膠(Photoresist)、掩模版(Photomask)、掩膜版基板(Mask Blank)、掩模版盒(Mask Pod)等,所涉及公司包括但不限于以下列表:

      五、其他材料

      研磨液/墊、靶材、濕化學(xué)品、氣體等則在“其他材料”這一部分進(jìn)行跟蹤,因涉及公司較多,在此不逐一列出,將在后續(xù)系列報告中詳述。

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