光刻膠光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來(lái)大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進(jìn)了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工業(yè)的，以后才用于電子工業(yè)。[1] 分類光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理，可分負(fù)性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠；反之，對(duì)某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。圖1是正性膠的顯影工藝與與負(fù)性膠顯影工藝對(duì)比結(jié)果示意圖[2]。 利用這種性能，將光刻膠作涂層，就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形?；?a data-lemma-id='8893869' target='_blank' >感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，光刻膠可以分為三種類型。 光聚合型采用烯類單體，在光作用下生成自由基，自由基再進(jìn)一步引發(fā)單體聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特點(diǎn)。 參考資料
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來(lái)自： 大智若愚wxy > 《科學(xué)技術(shù)專業(yè)》
